项目简介：

ALD(原子层沉积)是一种可以将物质以单原子膜的形式一层一层地镀在基体表面的方法。其原理是通过将气相前驱体脉冲交替地通入到反应器中，并沉积在基体表面，通过化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方式。原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度，成份和结构），优异的沉积均匀性和一致性使得其在微纳电子和纳米材料等领域具有广泛的应用潜力。

主打产品：热型原子层沉积系统以及等离子体增强型原子层沉积系统不仅畅销国内知名高校和科研院所，还远销美国等发达国家。