项目简介：

ICP-100A高密度离子刻蚀系统，是一种速率高精度高损伤小的新型先进刻蚀系统。它是在国家重点科技项目“高密度等离子体刻蚀技术的研究”的成果ICP-98A系统基础上改进的，可加工深亚微米及纳米图形，实现深硅刻蚀、蓝宝石图形刻蚀等工艺。该系统适用于科研实验和小规模生产。主要特点：

最大加工4”芯片，刻蚀材料包括，蓝宝石/石英/硅基材料 /Si /SiNx /SiC /SiO /Al /GaAs /GaN 等；系统具有自动化工艺过程控制；腔室恒温控制，确保腔室内壁沉积物易于清洗；系统可根据用户需求定制。

系统配置指标：

均匀性为 4英寸样片≤±5%；射频电源频率13.56MHz，功率1500W，500W；系统具有自动化传片机构，真空锁（Loadlock）；He背冷，水冷，恒温腔室；标配6路进气，可定制不同气路；真空系统为TMP Sets 分子泵机组，本底真空优于5×10 -3Pa；人机操作界面在Windows环境、触摸屏操作；具有菜单自动/手动模式两种模式。