成果简介

本成果主要由刻划及分度机构和承件回转及线纹生成机构等关键部分组成，微机 及光电传感器件等构成全闭环控制系统，实现刻划全过程的自动运行与监控。

主要技术指标

刻划范围：≤Ф300mm口径； 线纹间距：10″～1°；

分度精度：±1.5″。

应用范围

大口径球面等间距或不等间距、微米级线宽的金属网栅或掩模、微米级或亚微米 级光栅等的刻划。