项目简介：本项目研制出基于HIS技术和闭合场非平衡磁控溅射方法的大功率离子镀膜装置，开发出新型纳米硬质复合薄膜制备工艺技术，可用于制备多种复合硬质涂层。技术指标 ①最大溅射功率4′5 kW；②背底真空度￡10P-5P Pa；③磁控溅射靶4个；④工件对地单极性脉冲负偏压0～1 kV可调；⑤溅射温度：室温～450℃可调；⑥三轴联动的工具架。涂层主要技术指标：①涂层厚度3～5微米；②涂层硬度330 GPa；③涂层最高工作温度3900℃。

产品性能：可大幅度提高刀刃具的表面硬度、复合韧性以及抗高温氧化等力学性能和化学性能

应用行业：新材料,光机电一体化

专利情况：已有专利4个

应用范围：工业用刀具、模具及零部件等进行表面处理